刻蚀速率均匀度
2024-07-22
什么是刻蚀速率均匀度? 刻蚀速率均匀度是指在半导体制造过程中,刻蚀过程中材料的去除速率的均匀性。刻蚀是一种通过化学反应或物理过程将材料表面的一部分去除的技术,用于制造微电子器件。在刻蚀过程中,如果材料的去除速率不均匀,会导致器件的性能不稳定,甚至失效。刻蚀速率均匀度是半导体制造中非常重要的参数之一。 刻蚀速率均匀度的影响因素 刻蚀速率均匀度受多种因素的影响,包括刻蚀气体的流量、反应室的温度、压力、反应室的设计等。其中,刻蚀气体的流量是影响刻蚀速率均匀度最重要的因素之一。如果刻蚀气体的流量不均匀